有三種常用的等離子體激發(fā)頻率。激發(fā)頻率為40KHZ的等離子體為超聲波等離子體，微波等離子清洗 機(jī)13.56MHZ的等離子體為高頻等離子體，2.45GHZ的等離子體為微波等離子體。不同的等離子體產(chǎn)生的自偏壓是不同的。超聲波等離子的自偏壓在 0V左右，射頻等離子的自偏壓在250V左右，微波等離子的自偏壓很低，只有幾十伏。等離子體的作用機(jī)制不同。

MHZ是高頻等離子體，微波等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)2.45GHZ等離子體是微波等離子體。不同等離子產(chǎn)生的自偏壓不同，超聲波等離子的自偏壓在 0V左右，高頻等離子的自偏壓在250V左右，微波等離子的自偏壓很低，只有幾十伏, 3 等離子類(lèi)型的機(jī)理不同。等離子體反應(yīng)是物理反應(yīng)，高頻等離子體反應(yīng)既是物理反應(yīng)又是化學(xué)反應(yīng)，微波等離子體反應(yīng)是化學(xué)反應(yīng)，因?yàn)?0KHZ是早期技術(shù)。

超聲波等離子的自偏壓在 0V左右，微波等離子清洗 機(jī)高頻等離子的自偏壓在250V左右，而微波等離子的自偏壓很低，只有幾十伏，三種等離子的機(jī)理不同.超聲波等離子體產(chǎn)生的反應(yīng)是物理反應(yīng)，高頻等離子體產(chǎn)生的反應(yīng)既是物理反應(yīng)又是化學(xué)反應(yīng)，微波等離子體產(chǎn)生的反應(yīng)是化學(xué)反應(yīng)。高頻等離子清洗和微波等離子清洗主要用于現(xiàn)實(shí)世界的半導(dǎo)體制造應(yīng)用，因?yàn)槌暡ǖ入x子清洗對(duì)要清洗的表面有很大的影響。

2004年，微波等離子清洗 機(jī)Geim等人以石墨為原料，通過(guò)微機(jī)械剝離法獲得了一系列名為“石墨烯”的新材料，稱(chēng)為二維原子晶體。 “石墨烯”，也叫“單層石墨片”，是指包裹在蜂窩狀晶格中的一層致密的碳原子，碳原子以與單原子層相同的方式排列成二維結(jié)構(gòu) 石墨。 Geim et al. 用一個(gè)納米級(jí)的金“腳手架”，制作了一個(gè)浮動(dòng)的單層石墨烯薄膜，上面的浮動(dòng)石墨烯薄膜是“像微波一樣”，而不是“二維平面結(jié)構(gòu)”。我發(fā)現(xiàn)它是某物。

微波等離子清洗 機(jī)

激發(fā)頻率為40KHZ的等離子體為超聲波等離子體，13.56MHZ的等離子體為高頻等離子體，2.45GHZ的等離子體為微波等離子體。不同的等離子體具有不同的自偏壓。

目前，大多數(shù)人工等離子體方法都是通過(guò)光照射激發(fā)的，如高頻輝光放電（10～ MHZ，稱(chēng)為RF）和微波放電（1GHZ以上，稱(chēng)為MW）。在高分子材料的表面改性處理中，兩者都使用，RF放電等離子體較為常用，而MW法產(chǎn)生的低壓等離子體，材料分布更均勻，表面處理更均勻。那么等離子體究竟是如何與聚合物表面相互作用的呢？這是一個(gè)人使用具有疏水表面的 PET 薄膜進(jìn)行的測(cè)試。

未經(jīng)處理的氧化石墨烯在 0.5 mg/ml 的濃度下沒(méi)有表現(xiàn)出明顯的（明顯的）殺菌（細(xì)菌）能力，而在 0.02 mg/ml 的濃度下處理的氧化石墨烯對(duì)細(xì)菌（細(xì)菌）幾乎可以造成 90% 的滅活。 “了解冷等離子體的各種無(wú)菌性（細(xì)菌）) 機(jī)制是我們課題組的一個(gè)重要方向。 ”黃慶透露。為什么在氧氣和氮?dú)饣旌媳壤拢入x子體的無(wú)菌（細(xì)菌）作用（效果）如此之強(qiáng)？他們測(cè)定了不同氣體等離子處理后活性基團(tuán)的含量。

許多這些冶金涂層是通過(guò)物理氣相沉積 (PVD) 和化學(xué)氣相沉積 (CVD) 方法制造的。 PVD涂層系統(tǒng)使用汽化或?yàn)R射來(lái)固化固體涂層材料并將它們沉積在相對(duì)冷的工件表面上。工件的溫度一般以不降低材料內(nèi)部性能為原則。然而，PVD 涂層與清潔良好的表面之間的粘附力仍然很弱，這通常會(huì)限制其使用。 CVD涂層系統(tǒng)利用液態(tài)或氣態(tài)涂層材料的組合，在相對(duì)較高的溫度下在工件表面引起化學(xué)反應(yīng)。

微波等離子清洗 機(jī)

當(dāng)一種蒸氣滲透一種或多種附加蒸氣時(shí)，微波等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)這些元素在氣體混合物中的混合物會(huì)產(chǎn)生所需的腐蝕和清潔效果（水果）。等離子體裝置中的離子或高活性原子用于碰撞表面污染物或形成揮發(fā)性蒸氣，然后通過(guò)真空系統(tǒng)去除，以達(dá)到凈化表面的目的。在高頻電磁場(chǎng)中，空氣中的氧氣如甲烷。在電弧放電的情況下，水蒸氣等蒸氣分子可以在高速電磁場(chǎng)中凈化低壓氧氣。

使用等離子技術(shù)的超精細(xì)清洗可以替代某些工藝的整體清洗工藝，微波等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)省去高耗能的干燥工藝。高效的等離子活化技術(shù)消除了對(duì)環(huán)保和對(duì)健康有害的粘合劑和底漆的需求。對(duì)物體表面的更大附著力允許使用更環(huán)保的系統(tǒng)，例如水基非揮發(fā)性有機(jī)化合物。這意味著等離子技術(shù)可用于實(shí)現(xiàn)新的、低成本、環(huán)保的制造工藝，并獲得安全無(wú)毒的產(chǎn)品。