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如今,山東低溫等離子華為芯片被斷供,雖說高通已經(jīng)允許供貨,但也只能賣給華為4G芯片,現(xiàn)在5G才是主流,買4G芯片無疑給高通清庫存。在芯片制造中,刻蝕是關(guān)鍵的工序之一,在整個芯片生產(chǎn)中,等離子刻蝕機(jī)占所有生產(chǎn)設(shè)備投入約20%,可見這種設(shè)備是多么的重要了。
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★ 使用OPP和PP、PE涂層紙板★ PET復(fù)合紙板★ 金屬涂層紙板★ UV涂層紙板(用UV油固化后不能剝離) ★ 浸漬紙板★ PET、PP等透明塑料片材材料。應(yīng)用于紡織品整理:冷等離子體在紡織品整理方面有廣泛的用途。根據(jù)整理的目的和要求,可以實(shí)現(xiàn)紡織品的各種功能加工,大大提高產(chǎn)品的附加值。目前,紡織應(yīng)用主要分為以下幾類。
3.等離子清洗機(jī)/等離子清洗設(shè)備的結(jié)構(gòu)和工作原理研究等離子清洗機(jī)/等離子清洗設(shè)備的基本結(jié)構(gòu)調(diào)整設(shè)備的特征參數(shù)以優(yōu)化工藝流程,但等離子清洗設(shè)備的基本結(jié)構(gòu)幾乎是一樣。是一樣的??刂葡到y(tǒng)和其他組件。通常使用的真空泵是旋轉(zhuǎn)油泵,高頻電源通常使用13.56MHz的無線電波。該設(shè)備的操作過程如下。 (1)待清洗工件固定真空室,啟動操作裝置,開始排氣。結(jié)果,真空室的真空度變?yōu)榧s10Pa的標(biāo)準(zhǔn)真空度。
(2) 化學(xué)反應(yīng)化學(xué)等離子清洗法清洗速度快,選擇性好,去除有機(jī)物。缺點(diǎn)是在表面形成金屬氧化物。與物理反應(yīng)相比,化學(xué)反應(yīng)的缺點(diǎn)難以克服。此外,兩種化學(xué)反應(yīng)機(jī)制對表面超微結(jié)構(gòu)的影響也大不相同。物理化學(xué)可以在分子水平上使表面粗糙,改變表面的受力。此外,一種等離子體清洗,化學(xué)反應(yīng)等離子體蝕刻和化學(xué)反應(yīng)離子束蝕刻,在離子表面的反應(yīng)機(jī)理中起著重要作用。兩種洗滌相輔相成。原子態(tài),易吸收化學(xué)反應(yīng)物,離子碰撞加熱洗液。
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