C2H6 + e * → C2H5 + H + e (3-27) C2H6 + e * → 2CH3 + e (3-28)根據(jù)表 3-1 中的化學(xué)鍵解離能數(shù)據(jù)，北京加工非標(biāo)等離子清洗機(jī)腔體按需定制反應(yīng)方程式（3-28）（CC 鍵斷裂）不僅僅是一個(gè)反應(yīng)。方程（3-27）（斷開 CH 鍵）很容易進(jìn)行。
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然而，北京加工非標(biāo)等離子清洗機(jī)腔體按需定制含有活性官能團(tuán)的材料會(huì)受到氧或分子鏈運(yùn)動(dòng)的影響，從而消除表面活性官能團(tuán)。在等離子體對(duì)材料表層的改性中，等離子體中的活性粒子對(duì)表層分子的作用使表層分子鏈斷裂，形成新的自由基。然后雙鍵和其他反應(yīng)性官能團(tuán)進(jìn)行表面交聯(lián)。接枝和其他反應(yīng)。在反應(yīng)性等離子表面處理機(jī)中，等離子中的活性粒子與耐火材料表層發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而引入大量極性官能團(tuán)，使材料表層由非極性變?yōu)闃O性。它增加了表面張力并提高了附著力。
典型的等離子體化學(xué)清洗工藝是氧等離子體清洗。等離子體產(chǎn)生的氧自由基非常活躍，北京加工非標(biāo)等離子清洗機(jī)腔體按需定制容易與碳?xì)浠衔锓磻?yīng)生成二氧化碳、一氧化碳、水等揮發(fā)性物質(zhì)，從而去除表面污染物。
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在 GST 蝕刻完成并去除光刻膠后，添加一小步含氟氣體作為蝕刻劑（在蝕刻配方（CF4、SF6、NF3等）中，使用含氟氣體可以激活GST蝕刻副產(chǎn)物的特性，大大提高濕法清洗的效果。。等離子清洗機(jī)的真空室是保持真空泵內(nèi)部狀態(tài)的容器，真正的內(nèi)室質(zhì)量是等離子清洗機(jī)質(zhì)量特性的條件之一。無論是涂層產(chǎn)品還是表面產(chǎn)品，都必須在型腔內(nèi)進(jìn)行一系列操作。型腔設(shè)計(jì)必須考慮體積、使用的原材料和使用的形狀，具體取決于不同的設(shè)備。
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