Plasma等離子清洗機(jī)工作（清洗）原理等離子體是由帶正、負(fù)電荷的離子和電子,也可能還有一些中性的原子和分子所組成的集合體。plasma等離子清洗機(jī)一般由控制部分、真空腔室部分、等離子電源及耦合部分、氣體部分組成。
plasma等離子清洗機(jī)結(jié)構(gòu)原理圖Plasma等離子清洗機(jī)工作原理
Plasma等離子清洗機(jī)基本工作原理是在真空的狀態(tài)下，設(shè)備腔體內(nèi)的電極形成很高頻率的交變電場(chǎng)，腔體內(nèi)的氧氣或氬氣在交變電場(chǎng)的作用下形成等離子體，腔體內(nèi)被清洗的物體在活性等離子的化學(xué)反應(yīng)和反復(fù)物理轟擊的雙重作用下，使其表面揮發(fā)物殘留、雜質(zhì)、灰塵、氧化物等變成離子或氣態(tài)物質(zhì)，這些離子或氣體在真空的抽離下排出腔體，剝離出被清洗的物體表面，從而達(dá)到清洗的目的。采用這種方法能夠提升材料的粘附性與濕潤(rùn)性，去除不同類型的污染物和雜質(zhì)，從而為之后的工序奠定良好的基礎(chǔ)。
氧氣清洗是利用氧氣與有機(jī)物產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，變成二氧化氮和水蒸氣,再通過抽風(fēng)將氣體抽出的方式達(dá)到清洗的目的，清洗速度快效果好，但是不適合易于氧化的物體，只適合不易氧化的物體清洗。反應(yīng)方程式如公式（1）所示。
O2+e------>2O＋e CO2+H2O＋e（1）
氬氣清洗是利用比較重氬離子以高度運(yùn)動(dòng)的物理方法打破污染有機(jī)物脆弱的化學(xué)鍵,進(jìn)而使表面污染有機(jī)物變成氣體脫離載體。反應(yīng)方程式如公式（2）所示。Plasma清洗微觀原理圖如圖1所示。
Ar+e------>Ar++2e------>Ar++CxHy(2)
Plasma 清洗微觀原理圖與傳統(tǒng)的清洗相比，plasma等離子清洗的成本低、清洗效果好、安全環(huán)保且不會(huì)造 成二次污染，同時(shí)等離子清洗不僅可以去除固體表面的污染物，還可以提高固體 表面的潤(rùn)濕性能。plasma等離子清洗機(jī)工作原理可做如下解釋：通過抽真空，對(duì)真空腔體內(nèi)的 氣體施加足夠的能量使之離化為等離子體，一方面生成的等離子體可對(duì)樣品表面 的污染物進(jìn)行分解并將其帶走，實(shí)現(xiàn)清洗目的；另一方面等離子體中的“活性組 分”會(huì)代替固體表面的聚合物官能團(tuán)，增加固體表面活性，從而提高潤(rùn)濕性能。Plasma等離子清洗機(jī)工作（清洗）原理002242842428424284