氣壓1~5托(1托≈133帕),c18親水性色譜柱島津電源13.5兆赫。氮化硅沉積用SiH4+SiH3+N2。溫度300℃,沉積率約180埃/分。非晶碳化硅膜由硅烷加含碳的共反應(yīng)劑得SixC1+x:H,x是Si/Si+C比例。硬度大于2500千克/毫米2。在多孔基片上,用等離子體沉積一層薄聚合膜,制成選擇性的滲透膜及反滲透膜,可用于分離混合氣中的氣體,分離離子與水。

c18親水性

等離子清洗設(shè)備材料鍵合機(jī)參數(shù):序號(hào)型號(hào)CPC-ACPC-BCPC-C1艙體尺寸275X110(直徑)mm295X150(直徑)mm295X150(直徑)mm2艙體容積2.6L5.2L5.2L3射頻頻率40KHz40KHz13.56MHz4射頻功率10-200W無(wú)極可調(diào)10-200W無(wú)極可調(diào)10-150W無(wú)極可調(diào)5電 源220V 50/60HZ220V 50/60HZ220V 50/60HZ6電 流1.2A1.2A1.2A7時(shí)間設(shè)定1-99分59秒1-99分59秒1-99分59秒8氣體穩(wěn)定時(shí)間1分鐘1分鐘1分鐘9真空度 pa以內(nèi) pa以內(nèi) pa以內(nèi)10等離子激發(fā)方式電容式電容式電容式11外形尺寸L*W*H480*450*265mm520*450*290mm520*450*290mm12整機(jī)重量15Kg20Kg25Kg。

圖二 等離子體處理鐵氟龍的C1s 分峰圖等離子體引發(fā)過(guò)程中產(chǎn)生的活性粒子和極性基團(tuán)可以移除鐵氟龍表面的F并產(chǎn)生自由基,c18親水性引發(fā)表面發(fā)生交聯(lián)反應(yīng)或形成不飽和鍵,暴露于空氣中后又會(huì)與O2等發(fā)生反應(yīng),從而引入O和N元素并生成新的官能團(tuán)。鐵氟龍表面F/C比例越低、(O+N)/C比例越高,表明有越多的C-F2鍵被打斷并生成更多的官能團(tuán),從而使鐵氟龍的表面黏附性得到改善。

它在電子工業(yè)、化工、光學(xué)等方面有著廣泛的應(yīng)用。硅化合物的等離子體沉積。以SiH4+N2O(或Si(OC2H4)+O2)為原料制備SiOxHy。氣壓為1~5托(1托≈133Pa),c18親水性色譜柱島津電源為13.5MHz。SiH4+SiH3+N2用于氮化硅的沉積。在300℃下,沉積速率約為180A/min。非晶碳化硅薄膜由硅烷和含碳共反應(yīng)物組成,得到SixC1+x:H,x為Si/Si+C硬度大于2500kg/mm2的比值。

c18親水性色譜柱島津

c18親水性色譜柱島津

氣壓1~5托(1托≈133帕),電源13.5兆赫。氮化硅沉積用SiH4+SiH3+N2。溫度300℃,沉積率約180埃/分。非晶碳化硅膜由硅烷加含碳的共反應(yīng)劑得SixC1+x:H,x是Si/Si+C比例。硬度大于2500千克/毫米2。在多孔基片上,用等離子體沉積一層薄聚合膜,制成選擇性的滲透膜及反滲透膜,可用于分離混合氣中的氣體,分離離子與水。

電壓為自動(dòng)調(diào)壓器,由高壓變壓器充分升壓,波經(jīng)整流,然后對(duì)儲(chǔ)能電容C1充電。當(dāng)旋轉(zhuǎn)火花隙 RSG1 導(dǎo)通時(shí),C1 通過(guò)限流電阻 R 對(duì)脈沖形成電容器 C2 充電。在旋轉(zhuǎn)火花隙RSG2導(dǎo)通的瞬間,C2的能量通過(guò)RSG2釋放到電抗器,電抗器獲得一個(gè)高壓脈沖。 RSG1 和 RSG2 上的火花隙在同一旋轉(zhuǎn)軸上對(duì)齊,不能同時(shí)打開(kāi)。這使得 C1 充電 C2 和 C2 排放到反應(yīng)器作為兩個(gè)獨(dú)立的過(guò)程。

等離子清洗機(jī)的作用通過(guò)比較等離子清洗機(jī)前后無(wú)塵布的親水性和疏水性,可以看出等離子清洗機(jī)的表面改性處理實(shí)際上可以有效提高吸水率。然而,等離子表面改性過(guò)程中等離子清洗機(jī)的活化和蝕刻起著重要作用。等離子活化工藝可以在PET無(wú)塵布表面引入大量極性基團(tuán)。此類基團(tuán)的數(shù)量越大,潔凈布的表面自由能越高,潤(rùn)濕性和吸水性越好。

用等離子清洗裝置處理使材料表面發(fā)生各種物理化學(xué)變化、腐蝕,并形成致密的交聯(lián)層,從而獲得親水性、結(jié)合性、染色性、生物相容性。它已得到改進(jìn)。使用等離子清洗劑對(duì)硅橡膠進(jìn)行表面處理,大大提高了產(chǎn)品表面的親水性和附著力,而且表面層不會(huì)隨著時(shí)間的推移恢復(fù)到原來(lái)的狀態(tài)。研究、開(kāi)發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、銷售、是一家提供服務(wù)的高科技公司,是一家大型工業(yè)自動(dòng)化的大型中蓋合作公司。

c18親水性

c18親水性

通過(guò)該裝置對(duì)硅膠表層進(jìn)行處理,c18親水性N2、Ar、O2、CH4-O2和Ar-CH4-O2能夠提高硅膠的親水性。等離子技術(shù)可以改變硅膠表面的氧分子,將負(fù)極變成正極。具有低靜電感應(yīng)和優(yōu)良的防污性能,適用于眼鏡架和表帶、醫(yī)療器械、運(yùn)動(dòng)器材等產(chǎn)品,具有優(yōu)良的特性。等離子表面處理技術(shù)上適用于化學(xué)纖維、聚合物、塑料等原材料,也可用于金屬和結(jié)構(gòu)陶瓷的清洗、活化和蝕刻。等離子技術(shù)可以合理解決硅膠的靜電和污染問(wèn)題,延長(zhǎng)其使用壽命。。