真空等離子清洗機(jī)包括一個(gè)反應(yīng)腔室、電源和真空泵組。樣品放置反應(yīng)腔室內(nèi)，pe附著力樹(shù)脂助劑真空泵開(kāi)始抽氣致一定的真空度，電源啟動(dòng)便產(chǎn)生等離子體，然后氣體通入到反應(yīng)腔室，使腔室中的等離子體變成反應(yīng)等離子體，這些等離子體與樣品表面發(fā)生反應(yīng)，生產(chǎn)可揮發(fā)的副產(chǎn)物，并由真空泵抽出。真空離子清洗機(jī)由真空發(fā)生系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、等離子發(fā)生器、真空腔休、機(jī)械等幾個(gè)部分夠成，可以根據(jù)客戶的特殊要求定制符合客戶需要的真空系統(tǒng)，真空室。

但可以根據(jù)材料、功率、工作時(shí)間等進(jìn)行納米級(jí)蝕刻，pe附著力樹(shù)脂助劑也可以實(shí)現(xiàn)微米級(jí)蝕刻。對(duì)于不需要經(jīng)常使用刻蝕或刻蝕要求不高的客戶，可以使用等離子刻蝕機(jī)進(jìn)行刻蝕工藝，只需要準(zhǔn)備一個(gè)掩模。這對(duì)成千上萬(wàn)的人來(lái)說(shuō)是非常劃算的。蝕刻機(jī)的。目前，等離子蝕刻廣泛用于集成電路制造中，用于去除表面的有機(jī)物。等離子體是等離子體中部分電離的中性氣體、自由電子和中性分子。, 原子發(fā)生碰撞，通過(guò)碰撞電離獲得更多的電子和離子。

物質(zhì)分為固體、液體和氣體三種，pe附著力樹(shù)脂助劑但除固體、液體和氣體外，它們現(xiàn)在被稱為低溫等離子體。當(dāng)氣體被加熱到其壓力以上時(shí)，它會(huì)產(chǎn)生各種離子、電子和自由基的混合物。這種混合物稱為冷等離子體。冷等離子體的應(yīng)用享譽(yù)全球，對(duì)世界科學(xué)和經(jīng)濟(jì)的發(fā)展產(chǎn)生了不可磨滅的影響。冷等離子體具有適應(yīng)性強(qiáng)、節(jié)能、能耗低、設(shè)備組合強(qiáng)大、安全可靠等特點(diǎn)。因此，它被廣泛應(yīng)用于各個(gè)方面，為各個(gè)領(lǐng)域的人們所熟知。

1. CO2分子與高能電子的非彈性碰撞； 2.系統(tǒng)中的 CHx 和 H 等活性物質(zhì)會(huì)激活 CO2； 3.催化劑吸附 CO2 分子，德利信pe附著力促進(jìn)劑與 C-0 結(jié)合，促進(jìn) CO 鍵的斷裂和 CO。并產(chǎn)生活性O(shè)原子。顯然，在等離子體催化的聯(lián)合作用下，路徑 3 對(duì)于 CH4 和 CO2 的轉(zhuǎn)化無(wú)疑是重要的。等離子體中催化劑的活化主要取決于與高能電子的碰撞。

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