AF--防指紋中文為防指紋，附著力 聚氨酯AF等離子噴涂機(jī)又稱AF噴涂機(jī)、AF等離子噴涂機(jī)、防指紋等。防沾污中文意為防污，如等離子噴涂機(jī)又稱等離子涂層機(jī)、防油低溫等離子發(fā)生器、噴涂機(jī)等。AG--防眩光，中文稱防眩光，又稱AG等離子噴涂機(jī)、防眩光等離子噴涂機(jī)、防眩光等。中文是反射增強(qiáng)，AR等離子鍍膜機(jī)又稱AR噴涂機(jī)。反射式等離子鍍膜機(jī)、反射式等離子噴涂機(jī)等。。

拋光涂膠可以有效解決盒、盒涂膠時(shí)的涂膠問題，附著力 聚氨酯但仍存在以下問題。 1、拋光時(shí)刮下的紙毛和部分紙粉污染機(jī)器周圍環(huán)境。機(jī)械設(shè)備； 2.由于磨石的線速度方向與產(chǎn)品的運(yùn)行方向相反，會(huì)影響部分產(chǎn)品的運(yùn)行速度，降低工作效率； 3.涂層已被刮掉，但只有一層UV涂層和少量紙面涂層。適用于高檔藥盒、化妝品盒膠盒的成本不是很低，因?yàn)槠胀ㄖ圃焐淌褂闷胀z水膠盒并不容易。

真空等離子清洗機(jī)有幾種稱謂，涂層附著力 長 時(shí)間 脫又稱真空等離子、清洗機(jī)、清洗儀器、蝕刻機(jī)，如表面處理機(jī)、等離子清洗機(jī)、等離子清洗機(jī)、除膠機(jī)、等離子清洗設(shè)備。等離子體清洗機(jī)/等離子體處理器/等離子體處理設(shè)備廣泛應(yīng)用于等離子體清洗、等離子體刻蝕、隔離膠、等離子體涂層、等離子體灰化、等離子體處理和等離子體表面處理等領(lǐng)域。

因此，涂層附著力 長 時(shí)間 脫與等離子等離子體下的純 C2H6 脫氫相比，C2H6 的轉(zhuǎn)化率和 C2H2、C2H4 和 CH4 的產(chǎn)率隨著 H2 濃度的增加而顯著增加。將 H2 施加到 C2H6 的力的優(yōu)點(diǎn)之一是它抑制了碳沉積物的形成。表 3-2 顯示了等離子體能量密度對 H2 氣氛中 C2H6 脫氫反應(yīng)的影響。隨著等離子注入量的增加，C2H6 的轉(zhuǎn)化率急劇增加。

附著力 聚氨酯

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　其間，等離子清洗機(jī)物理反應(yīng)機(jī)制是活性粒子炮擊待清洗表面，使污染物脫離表面終究被真空泵吸走；等離子清洗機(jī)化學(xué)反應(yīng)機(jī)制是各種活性的粒子和污染物反應(yīng)生成易揮發(fā)性的物質(zhì)，再由真空泵吸走揮發(fā)性的物質(zhì)，然后到達(dá)清洗意圖。 　 　 表面清洗方法才是等離子清洗機(jī)技能的中心，這一中心也是現(xiàn)在很多企業(yè)之所以挑選 等離子清洗機(jī)的重點(diǎn)。

在大氣壓脈沖電暈等離子體中，改變針板反應(yīng)器上下電極之間放電距離的效果主要有兩個(gè)方面。一是當(dāng)反應(yīng)氣體密度恒定時(shí)，放電距離D增加。 , 電極間的電場強(qiáng)度增加。當(dāng)它減小時(shí)，等離子體中高能電子的麥克斯韋分布曲線由高能區(qū)向低能區(qū)移動(dòng)，高能平均能量減小。 -能量電極。另一方面，隨著D值的增加，等離子等離子體的有效面積增加。這對應(yīng)于反應(yīng)氣體在等離子體區(qū)域中的停留時(shí)間的增加。

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Liu 等人使用直流和交流電暈放電等離子體技術(shù)研究了在氧化氣體 O2 存在下的甲烷耦合反應(yīng)。在頻率30Hz、電壓5kV、氣體流速ml/min下，涂層附著力 長 時(shí)間 脫甲烷轉(zhuǎn)化率為43.3%，C2烴選擇性為48.3%，C2烴收率為21%。根據(jù)等離子設(shè)備制造商的一項(xiàng)調(diào)查，產(chǎn)品中 CO 和 CO2 的含量取決于添加氧氣的方式。

如果要使陰極損耗盡可能小，附著力 聚氨酯一般采用耐火材料，但選材時(shí)要考慮所用工作氣體的種類。如果工作氣體是氬氣、氮?dú)?、?氮、氫-氬氣，陰極常用鈰-鎢或釷-鎢；當(dāng)工作氣體為空氣或純氧時(shí)，可用鋯或水冷銅作陰極。等離子區(qū)域銷售分站低溫真空常壓等離子表面處理機(jī)（等離子清洗機(jī)、等離子）服務(wù)區(qū)域：服務(wù)熱線：轉(zhuǎn)換失敗。