這種低中性化低通量和高能量的粒子束導(dǎo)致了低的蝕刻速率和蝕刻選擇比，附著力促進劑的量多少所以并不太適用于蝕刻工藝 與前兩種方式不同，對于等離子表面處理機感應(yīng)耦合式等離子體加平行碳板方式而言，中性粒子束是由負離子分離電子形成的。 在等離子脈沖技術(shù)功率關(guān)閉階段，大量負離子產(chǎn)生并通過平行碳板，通過分離電子形成中性粒子束。

大氣型等離子清洗機基于等離子的可控特性，用于附著力促進劑的原料采用單噴頭或多噴頭等方式對對象進行處理，幾乎適用于工業(yè)領(lǐng)域。

用于大型腔體時，附著力促進劑的量多少具有等離子體能量高、等離子體密度低、無需匹配、成本低等特點。公約為5千瓦至20千瓦。激發(fā)頻率為13.56MHz的等離子體為射頻等離子體，其回波既有物理回波又有化學(xué)回波；常用的Z電源，其特點是等離子體能量低，但等離子體密度高。效果均勻，但成本略高。慣例是瓦特對0瓦特。

CO2 & RARR; CO + 0.5O2ΔH2 = 283KJ / MOL (4-6) 顯然，用于附著力促進劑的原料式（4-5）和（4-6）都是吸熱反應(yīng)，其能量效率為&ETA；C2 = [(ΔH1 X YC2 XF) / P. ] X (4-7) & ETA; CO = [(ΔH1 X YCO XF) / P] 在 X (4-8) 方程中，P 是 PLASMA 的等離子體功率 (KJ / S)，F(xiàn) 是摩爾數(shù)流量 原料氣（MOL/S）和P/F為能量密度（KJ/MOL）。

用于附著力促進劑的原料

等離子體技術(shù)存在著各種特定的粒子：處于各種激發(fā)態(tài)的電子、粒子、原子、分子和自由基。在這種特定顆粒的作用下，原料的表面特性會發(fā)生變化。等離子清洗機技術(shù)的特點是：（1）等離子清洗機對原料表層的作用深度只有幾百埃，且不會干擾基材原料特性；（2）等離子清洗機可處理各種形狀的表面層；（3）鑒于低溫等離子體技術(shù)的獨特性，近年來等離子體清洗機在原材料表面改性材料方面引起了越來越多的關(guān)注和興趣。。

經(jīng)等離子清洗后器材外表是枯燥的，不需要再處理，能夠進步整個工藝流水線的處理功率；能夠使操作者遠離有害溶劑的損傷；等離子能夠深化到物體的微細孔眼和洼陷的內(nèi)部完成 清洗，因此不需要過多考慮被清洗物件的形狀；還能夠處理各種原料，特別適合不耐熱以及不耐溶劑的 原料。這些優(yōu)點，都使等離子體清洗得到廣泛關(guān)注。目前，等離子清洗設(shè)備主要有批量式及在線式兩種。

等離子體與材料表面的化學(xué)反應(yīng)主要是利用等離子體中的自由基與材料表面發(fā)生反應(yīng)?；瘜W(xué)反應(yīng)中常用的氣體有氧氣、氫氣、CH4等。這種氣體會發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。等離子體產(chǎn)生高活性自由基自由基的作用主要是化學(xué)反應(yīng)過程中能量轉(zhuǎn)移的“活化”。處于激發(fā)態(tài)的自由基與表面結(jié)合時變得更有活力，產(chǎn)生新的自由基。對象的分子。

在今天的文章中，我們一起來看看等離子表面處理設(shè)備的相關(guān)優(yōu)勢。

用于附著力促進劑的原料

如果您對等離子表面清洗設(shè)備還有其他問題，附著力促進劑的量多少歡迎隨時聯(lián)系我們（廣東金萊科技有限公司）

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