當(dāng)NiO負(fù)載為40%時，pce-6等離子除膠反應(yīng)體系等離子等離子體與NiO/Y-Al2O3催化劑共同作用時，在CO2氧化CH4為C2烴的反應(yīng)中，催化劑表面存在CHx自由基氧化過程。從側(cè)面檢查。 ..因此，有必要選擇Na2WO4/Y-Al2O3作為研究生成C2烴的目標(biāo)產(chǎn)物，而NiO/Y-Al2O3適合生產(chǎn)CO。在等離子體作用下加入CO2氧化和CH4轉(zhuǎn)化催化劑的目的是提高C2烴的收率，具有很高的經(jīng)濟價值。
等離子處理后有兩種變化，pce-6等離子除膠機器物理變化和化學(xué)變化。物理變化：材料表面受到等離子體照射后，表面變得粗糙，表面的親水性、附著力、附著力大大提高?；瘜W(xué)變化：離子束刺激產(chǎn)品表面的分子結(jié)構(gòu)，使分子鏈斷裂，使其處于自由狀態(tài)，增強了印刷和打碼時的捏合力。火焰處理簡單來說就是在高溫下破壞材料的表面結(jié)構(gòu)，使材料表面更粗糙。等離子清洗機的應(yīng)用范圍非常廣泛，包括但不限于汽車、電子設(shè)備、手機制造、航空航天、醫(yī)學(xué)生物等行業(yè)。
等離子清洗機處理工藝快速可靠，pce-6等離子除膠機器均勻的等離子束確保表面處理均勻穩(wěn)定等離子清洗機預(yù)處理：等離子技術(shù)和等離子涂層技術(shù)，等離子技術(shù)或等離子涂層技術(shù)的無限應(yīng)用具有可擴展性的表面涂層工藝表面滿足各種性能要求的后續(xù)過程。使用這種新的等離子技術(shù)，您可以使用低成本材料來生產(chǎn)新的、高性能的優(yōu)質(zhì)材料。等離子清洗涂層技術(shù)非常適合選擇性涂層處理，極大地擴展了該技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域。
等離子清洗是一種比較微觀的清洗，pce-6等離子除膠機器不適用于污染嚴(yán)重的清洗。 1、等離子清洗的明顯缺點是清洗的及時性。等離子清洗的時效性一般很短，幾小時到幾天。由于這個缺點，用等離子體處理的產(chǎn)品必須非常短。下一個過程如下所示：它運行迅速，不能長時間存放。其次，在常壓等離子清洗機的情況下，對被清洗物體的形狀有一定的限制。 3、真空等離子清洗機，由于腔體尺寸的限制，特別是大型工件需要定制的腔體也很大，真空技術(shù)需要過硬。
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這兩種方法的目的都是賦予材料一些表面特性，或者同時具有它們。為此，人們研究開發(fā)了多種可用的表面處理技術(shù)。使用電等的化學(xué)濕法處理用小束或紫外光處理干墻，用表面活性劑進行添加劑處理，并通過真空蒸發(fā)進行金屬化。但是，使用了等離子清潔器干式墻技術(shù)。不僅可以改變表面結(jié)構(gòu)和控制界面的物理特性，還可以根據(jù)需要進行表面涂層處理。等離子清洗劑在塑料、天然纖維和功能性聚合物薄膜的表面處理方面具有巨大潛力。本文來自北京。
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