當粒子的熱速遠小于波速，粉末涂層附著力以及回旋半徑（對磁化等離子體來說）遠小于波長時，這時是冷等離子體，其波動現(xiàn)象采用磁流體力學方法來研究。  非磁化冷等離子體中的波有光波，波速比真空光速c大。對于磁化冷等離子體，它是各向異性的,介電常數(shù)成為張量。如同其他各向異性介質(zhì)中會有兩支波一樣,磁化冷等離子體中也有兩支波：尋常波與非常波。

等離子刻蝕機又稱等離子刻蝕機、等離子表面刻蝕機、等離子表面處理裝置、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子刻蝕機技術(shù)是干法刻蝕的一種常見形式。其原理是暴露于電子域的氣體形成等離子體，粉末涂層附著力等離子體產(chǎn)生等離子體，放出由高能電子組成的氣體，形成等離子體或離子。在電場的情況下，釋放的力足以粘附到材料或蝕刻表面，并與表面的驅(qū)動力相結(jié)合。在某種程度上，等離子清洗實際上是等離子刻蝕過程中的一個小現(xiàn)象。

CO2加入量變化導致反應的氣體產(chǎn)物C2H4/C2H2比值和H/CO比值發(fā)生變化，粉末涂層附著力不好的現(xiàn)象隨CO2加入量增加，C2H4/C2H2比值有所增加，H2/CO比值下降，這是由于反應體系內(nèi)CO收率快速增加所致。。等離子體和表面的相互作用等離子體和表面的相互作用，例如濺射，已發(fā)現(xiàn)了一個世紀以上，但只有這一領(lǐng)域和受控熱核聚變研究相結(jié)合，才得到迅速發(fā)展。在受控熱核聚變研究的早期階段，就已發(fā)現(xiàn)并研究了單極弧、氣體循環(huán)等現(xiàn)象。

另一方面，粉末涂層附著力不好的現(xiàn)象各種活性粒子會轟擊清洗材料表面，使得材料表面的沾污雜質(zhì)會隨氣流被真空泵吸走。這種清洗方式本身不存在化學反應，在被清潔材料表面沒有留下任何氧化物，因此可以很好地保全被清洗物的純凈性，保障材料的各向異性。TO(TransistorOutline),即晶體管外形。早期晶體管大都采用同軸封裝，后來被借用到光通信中，叫做TO封裝，即同軸封裝。

粉末涂層附著力不好的現(xiàn)象

在等離子體中存在下列物質(zhì)，處于高速運動轉(zhuǎn)態(tài)的電子，處于激發(fā)轉(zhuǎn)態(tài)的中性原子、分子、原子團（自由基）；離子化的原子、分子、分子解離反應過程中生成的紫外線，未反應的分子，原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。 等離子體清洗的機理，主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。

電路板等離子清洗機在清潔產(chǎn)品表面的優(yōu)點一、線路板經(jīng)等離子清洗機之后是干燥的，提高整個工藝流水線的處理效率，整個工藝能在較短的時間內(nèi)完成；二、電路板等離子清洗機使得用戶可以遠離有害溶劑對人體的傷害，同時也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題;三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑，這樣清洗后不會產(chǎn)生有害污染物，因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。

由于氧氣的強氧化性，本方案中更換氮氣后，可以控制這一問題。三是只用氬氣，僅用氬氣就可以實現(xiàn)表面改性，但效果相對較低。這種情況比較特殊，是少數(shù)工業(yè)客戶需要有限且均勻表面改性時的解決方案。常壓等離子體，也是低溫等離子體，不會損傷材料表面。無電弧，無真空室，無有害氣體吸入系統(tǒng)，長期使用不會對操作人員造成身體傷害。。工廠生產(chǎn)的FPC并不具有優(yōu)異的撓性，因為…A，F(xiàn)PC材料本身具有以下幾點對FPC的撓性功能有重要影響。

在等離子體狀態(tài)下，電子和原子鍵釋放的原子、中性原子、分子和離子以高能無序運動，但它們完全是中性的。高真空室中的氣體分子被電能激發(fā)，加速后的電子相互碰撞，使原子或分子的最外層電子被激發(fā)而脫離軌道，反應性比較強的離子或自由基被生成。這樣產(chǎn)生的離子和自由基在電場的作用下被加速并不斷碰撞，與材料表面碰撞，破壞了分子間原有的在幾微米深度和孔內(nèi)恒定的結(jié)合方式。深度，形成細小的凹痕和凸起。

粉末涂層附著力