英特爾公司2011年用22nm節(jié)點(diǎn)工藝推出了商業(yè)化的 FINFET:2014年底，福建射頻等離子清洗機(jī)供應(yīng)三星公司實(shí)現(xiàn)了14 nm FINFET工藝量產(chǎn)，為未來(lái)的移動(dòng)通信設(shè)備提供更快、更省電的處理器。緊隨其后，臺(tái)積電公司2015年推出增強(qiáng)型16 nm FINFET+。
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用等離子技術(shù)處理的表面可以增加表面能，無(wú)論是塑料、金屬還是玻璃。采用這樣的加工工藝，產(chǎn)品的表面狀態(tài)完全可以滿足后續(xù)涂層、粘合等工藝的要求。大氣壓等離子技術(shù)的應(yīng)用范圍非常廣泛，已成為受到業(yè)界廣泛關(guān)注的核心表面處理工藝。通過(guò)使用這種創(chuàng)新的表面處理工藝，您可以滿足最新制造工藝所追求的高質(zhì)量、高可靠性、高效率、低成本和環(huán)保的目標(biāo)。
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