plasma等離子體作用下CO2添加量對(duì)CH4轉(zhuǎn)化反應(yīng)的影響：在O2等離子體甲烷氧化偶聯(lián)反應(yīng)中，附著力促進(jìn)劑添加量O2的加入量會(huì)直接影響到CH4轉(zhuǎn)化率和C2烴選擇性，較低的O2加入量使CH4轉(zhuǎn)化率低，過(guò)高的O2加入量將導(dǎo)致CH4氧化為COx(x=1，2）。對(duì)于plasma等離子體作用下的CO2氧化CH轉(zhuǎn)化反應(yīng)而言，也存在著合適的CO2添加量。
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CO2添加量對(duì)CH4、CO2轉(zhuǎn)化率和產(chǎn)物收率的影響結(jié)果可見(jiàn)：當(dāng)原料氣中CO2濃度由15%增至85%時(shí)，附著力促進(jìn)劑添加量CH4轉(zhuǎn)化率隨之逐漸增加，CO2轉(zhuǎn)化率則呈峰形變化，在CO2濃度為50%~65%達(dá)到高為24%左右。
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在放電間隙中，附著力促進(jìn)劑添加量伴隨頻率進(jìn)一步提高到54.24MHz，產(chǎn)生高密度電子，形成一個(gè)穩(wěn)定的中性等離子體區(qū)域。這說(shuō)明隨著伴隨頻率的提高，放電結(jié)構(gòu)發(fā)生了變化，傳統(tǒng)的輝光結(jié)構(gòu)得以出現(xiàn)。 20年專(zhuān)注研發(fā)射頻等離子清洗機(jī)等，如果想了解更多產(chǎn)品細(xì)節(jié)或在設(shè)備使用方面有疑問(wèn)，請(qǐng)點(diǎn)擊 在線客服，恭候您的來(lái)電！。
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與其他放電方式相比，脈沖電暈還具有以下優(yōu)點(diǎn):(1)脈沖電暈工作在較高的脈沖電壓下，不像直流電暈在稍高電壓下容易過(guò)渡到火花放電，及其活性粒子濃度可以好幾個(gè)數(shù)量級(jí)高于直流電暈;(2)由于日冕面積大,放電空間的電子密度更高的高電壓的作用下,和空間電荷效應(yīng)更加明顯,反應(yīng)中電子的分布區(qū)域往往是統(tǒng)一的,所以有源電暈的空間要比直流電暈大得多，要注意使用高壓開(kāi)關(guān)電源;(3)由于電子密度高、分布廣，電抗器的設(shè)計(jì)空間大，允許電抗器制造誤差大。
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