然而，薄膜等離子體蝕刻機(jī)從國(guó)內(nèi)外等離子體表面處理技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)來(lái)看，其應(yīng)用仍主要局限于實(shí)驗(yàn)室研究和小規(guī)模生產(chǎn)。然而，制約規(guī)?；a(chǎn)的主要因素是不能在真空環(huán)境下實(shí)現(xiàn)大面積薄膜材料的連續(xù)加工。。薄膜等離子體表面處理機(jī)材料處理技術(shù):塑料薄膜采用等離子體表面處理技術(shù)處理，可以選擇部分或全部材料進(jìn)行表面處理。處理前后材料的力學(xué)性能沒(méi)有變化。

目的是優(yōu)化聚合物基板的鍵合性能。聚合物襯底的表面能較低，薄膜等離子體表面處理通常導(dǎo)致具有較高表面能的油墨、膠水和涂料的附著力差。等離子表面處理機(jī)廣泛應(yīng)用于塑料薄膜、擠壓、汽車、醫(yī)藥等行業(yè)。要實(shí)現(xiàn)粘附，基體的表面能必須大于或等于聚合物所用材料的表面能。

在糊盒機(jī)、等離子體拋光也被稱為等離子表面處理器,指飛機(jī)的使用低溫等離子體炬包裝盒子表面的電影,電影,UV涂料或塑料薄膜在一定物理和化學(xué)改性,改善表面附著力,提高粘接強(qiáng)度,使它像普通紙張一樣容易粘接。同時(shí)解決了糊盒過(guò)程中開(kāi)膠現(xiàn)象，薄膜等離子體表面處理粘接質(zhì)量穩(wěn)定，產(chǎn)品一致性好，無(wú)粉塵，環(huán)境潔凈。是糊盒機(jī)提高產(chǎn)品質(zhì)量的最佳解決方案。

PET薄膜材料因其良好的抗疲勞性能、強(qiáng)度和韌性、高熔點(diǎn)、優(yōu)異的隔離性能、耐溶劑性能和優(yōu)良的抗皺性能，薄膜等離子體蝕刻機(jī)已廣泛應(yīng)用于包裝、防腐涂料、電容器制備、磁帶甚至醫(yī)療衛(wèi)生技術(shù)等領(lǐng)域。然而，由于PET膜材料的表面自由能較低，潤(rùn)濕性、粘附性、印刷性等加工性能較差，這對(duì)PET膜在實(shí)際生產(chǎn)中的應(yīng)用有很大的限制。因此，通常采用等離子清洗機(jī)對(duì)PET薄膜材料表面進(jìn)行改性，既不會(huì)損傷材料基體，又保留了PET材料固有的特性。

薄膜等離子體表面處理

等離子體參數(shù):在金剛石成核的早期階段,因?yàn)樘嫉姆稚⒌骄仃噷⑿纬梢粋€(gè)界面層表面的矩陣,研究表明,等離子體參數(shù)對(duì)界面層也有重要的影響,例如,當(dāng)金剛石薄膜沉積在硅矩陣,甲烷濃度對(duì)碳化硅界面層的形成有直接影響。威廉姆斯，B.E.和格拉斯，m. j.t.， j. maters(2)(1989): 373 - 384。

選用等離子技術(shù)活化多種板材表面，操作簡(jiǎn)單，無(wú)有害物質(zhì)產(chǎn)生，處理(效果)效果好，效率高，運(yùn)行成本低。處理過(guò)的等離子發(fā)生器產(chǎn)品可以保留多久進(jìn)行后續(xù)加工?產(chǎn)品的儲(chǔ)存時(shí)間取決于激活時(shí)間和板材材料，從幾分鐘到幾個(gè)月。因此，通常需要進(jìn)行實(shí)地測(cè)試。包裝行業(yè)一直存在覆膜膠的問(wèn)題。通過(guò)等離子發(fā)生器，可以很好的解決銅版紙、上光紙、薄膜紙、鍍鋁紙、紫外線涂料、聚丙烯、聚酯等板材粘接不牢固或不能粘接的問(wèn)題。

通過(guò)有選擇地控制加工參數(shù)，如溫度、噴嘴位置、寬度和速度，該裝置可以使用氣體而不是其他材料有效地清潔、激活或涂層這些薄膜材料。

等離子體處理后可以增加材料的表面張力，增強(qiáng)被處理材料的結(jié)合強(qiáng)度，等離子清洗機(jī)通常用于:1。表面等離子體激活/清洗;2。2 .等離子處理后上膠;等離子體蝕刻/激活;4。等離子體脫膠;5。5 .等離子涂層(親水、疏水);加強(qiáng)約束力;7。等離子體涂層;8。等離子體灰化和表面改性。通過(guò)等離子清洗機(jī)的處理，可以提高材料表面的潤(rùn)濕能力，使各種材料可以進(jìn)行涂覆、鍍等操作，增強(qiáng)附著力、結(jié)合力，同時(shí)去除有機(jī)污染物、油污或潤(rùn)滑脂。

薄膜等離子體表面處理

汽車輕粘接，薄膜等離子體表面處理剎車片、雨刷、發(fā)動(dòng)機(jī)控制器蓋、儀表、緩沖器等，可采用等離子表面處理進(jìn)行清潔，激活零件表面，增強(qiáng)表面附著力、吸附力。低溫寬范圍等離子清洗機(jī)清洗反應(yīng)分類1。具有固體表面的等離子體反應(yīng)可分為物理反應(yīng)(離子轟擊)和化學(xué)反應(yīng)。物理反應(yīng)機(jī)理是活性粒子轟擊被清理表面，使污染物從表面被清除，最終被真空泵吸走?；瘜W(xué)反應(yīng)的機(jī)理是各種活性顆粒與污染物反應(yīng)形成揮發(fā)性物質(zhì)，再由真空泵除去。半導(dǎo)體材料的光刻。

以下是等離子表面處理設(shè)備的一些常見(jiàn)問(wèn)題1。等離子體表面處理設(shè)備的處理時(shí)間等離子體設(shè)備對(duì)聚合物表面的化學(xué)改性是由自由基引起的。等離子體設(shè)備處理的時(shí)間越長(zhǎng)，薄膜等離子體蝕刻機(jī)放電功率越大，因此需要很好地把握。等離子表面處理器的功率是多少?一個(gè)典型的等離子體設(shè)備大約有一千瓦的功率。等離子表面處理產(chǎn)品可以保留多久?這取決于產(chǎn)品本身的材質(zhì)。