介質(zhì)阻檔放電可以在常溫常壓中穩(wěn)定進(jìn)行，光引發(fā)劑與附著力產(chǎn)生連續(xù)的等離子源，且放電設(shè)備造價(jià)合理，因此確保了其在工業(yè)化應(yīng)用時(shí)的成本和連續(xù)性；其次，介質(zhì)阻檔放電能夠通過反應(yīng)性氣體（如氧氣）產(chǎn)生能夠活(化)復(fù)合材料表面的粒子，可以確保表面能夠提高足夠的膠接強(qiáng)度。

等離子表面處理的優(yōu)點(diǎn)與設(shè)備原理真空等離子清洗機(jī)是氣體分子在真空、放電等特殊場(chǎng)合下產(chǎn)生的物質(zhì)，光引發(fā)劑與附著力等離子清洗/刻蝕產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電磁場(chǎng)，用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子間距及分子或郭的自由運(yùn)動(dòng)距離也越來越長(zhǎng)，受磁場(chǎng)作用，發(fā)生碰撞而形成等離子體，同時(shí)會(huì)發(fā)生輝光，等離子體在電磁場(chǎng)內(nèi)空間運(yùn)動(dòng)，并轟擊被處理物體表面，達(dá)到去除表面油污以及表面氧化物，灰化表面有機(jī)物，以及其它化學(xué)物質(zhì)，從而達(dá)到表面處理、清洗和刻蝕效果，經(jīng)過等離子處理工藝可以實(shí)現(xiàn)有選擇的表面改性。

但是，光引發(fā)劑與附著力這種方法在產(chǎn)生粉塵污染環(huán)境的同時(shí)，不容易達(dá)到提高制件表面粗糙度均勻的目的，容易導(dǎo)致復(fù)合材料制件表面產(chǎn)生變形破壞，從而影響制件粘接面的性能。所以可以考慮采用。一種可控制、可控制的等離子清洗設(shè)備技術(shù)，在改善材料表面的物化性能的同時(shí)，有效、精確地清除污染物，從而獲得較好的粘接性能。。

等離子體處理設(shè)備的清洗范圍是納米有機(jī)和無機(jī)污染物。低壓氣光等離子體主要用于等離子體發(fā)生器的加工和應(yīng)用。一些非聚合物無機(jī)氣體(ar.n2.h2。O2等)在高頻和低壓的刺激下產(chǎn)生各種活性粒子，光引發(fā)劑與附著力如離子、激發(fā)態(tài)分子和自由基。等離子體發(fā)生器加工可分為兩類:一類是稀有氣體等離子體(如Ar.N2等);另一類是活性氣體等離子體(如O2、H2等)。這些活性粒子可以與表面物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)，刺激狀態(tài)分子清潔活化表面。

光引發(fā)劑加多附著力不好嗎

射頻等離子體(激發(fā)頻率13.56MHz)涉及物理響應(yīng)類型和化學(xué)響應(yīng)類型。(2)工作氣體類型對(duì)等離子體清洗類型也有一定的影響。例如，惰性氣體如Ar2、N2激發(fā)的等離子體主要用于物理清洗，通過脫殼效應(yīng)使數(shù)據(jù)表面清潔?；钚詺怏wO2、H2等興奮等離子體主要用于化學(xué)清洗,與活性自由基和污染物(主要是碳?xì)浠衔?化學(xué)反應(yīng),一氧化碳,二氧化碳,水和其他小分子,從表面數(shù)據(jù)。(3)等離子體清洗的類型對(duì)清洗效果有一定的影響。

光引發(fā)劑加多附著力不好嗎