但是，外延片plasma蝕刻機(jī)硅片尺寸越大，對微電子工藝設(shè)計(jì)、材料和技術(shù)的要求就越高。 2.單晶生長法劃分通過直拉法制造的單晶硅稱為CZ硅（片），通過磁控管直拉法制造的單晶硅稱為MCZ硅（片）。這種方法稱為FZ硅（芯片），硅的外延層通過外延生長在單晶硅或其他單晶襯底上，稱為外延（硅片）。三是硅片與圓片的區(qū)別。未切割的單晶硅材料是稱為晶體的薄晶片。

目前廣泛使用的石墨烯制備方法主要有微機(jī)械剝離法、外延生長法、氧化還原法、化學(xué)法等。幾種氣相沉積方法。其中，外延片plasma蝕刻機(jī)微機(jī)械剝離法生產(chǎn)效率低，外延生長法可以獲得高質(zhì)量的石墨烯，但對設(shè)備要求高。雖然化學(xué)氣相沉積法和氧化還原法可以大規(guī)模制造，但化學(xué)氣相沉積法生產(chǎn)的石墨烯的厚度難以控制，在沉淀和遷移過程中只有一小部分碳轉(zhuǎn)化為石墨烯。過程很復(fù)雜。

牢固附著環(huán)保安全的水性油墨。 2.使用等離子清洗機(jī)在高速和高能星沖擊下對橡膠進(jìn)行表面處理。這種材料結(jié)構(gòu)的表層可以向外延伸，外延片plasma表面清洗機(jī)同時(shí)在材料表層上形成特定的層，因此橡膠可以用于印刷、涂膠、涂膠等操作。使用等離子清洗機(jī)進(jìn)行橡膠表面處理具有操作方便、不含有害物質(zhì)、清洗效果好、效率高、運(yùn)行成本低等優(yōu)點(diǎn)。使用等離子清洗機(jī)在材料表面發(fā)生各種物理和化學(xué)變化，它被腐蝕，并形成高密度的交聯(lián)層，從而產(chǎn)生親水性、粘合性和染色性。

優(yōu)點(diǎn)是表面電子能量比射頻能量小兩個(gè)數(shù)量級，外延片plasma蝕刻機(jī)使其對目標(biāo)無破壞性。。磷化銦不僅可以作為外延層的基材，還可以作為溝道材料和電極材料，因此相對于其他3-5組材料，對銦的等離子體刻蝕研究正在取得進(jìn)展。...等離子蝕刻清洗機(jī)磷化材料。用 CH4 和 H2 蝕刻磷酸鹽鋼是一種早期的方法。該方法可用于大面積、大尺寸的磷化銦蝕刻。

外延片plasma蝕刻機(jī)

從器件集成的角度來看，鰭片損耗是不可避免的，因?yàn)楸仨毲鍧嶖捚蜄艠O交叉角處的多晶硅，以確保后續(xù)外延生長的效果。。等離子表面處理的優(yōu)點(diǎn)：等離子表面處理設(shè)備的處理系統(tǒng)是材料表面活化的一種形式，適用于高效、準(zhǔn)確的處理效果，各種生產(chǎn)線和生產(chǎn)環(huán)境，節(jié)能、環(huán)保、節(jié)省空間和低成本運(yùn)行。

低溫等離子電源氫等離子體原位清洗硅襯底表面：硅表面清洗技術(shù)由兩部分組成：襯底裝入沉積系統(tǒng)前的外表面清洗和沉積過程中的原位清洗。配置外延前的系統(tǒng)。廣泛使用的堿性和酸性過氧化氫清洗液可以去除硅片表面大部分被污染的金屬離子和含碳基團(tuán)，形成一層幾乎不含碳的薄氧化層。這在最小化中起著非常重要的作用。大氣和系統(tǒng)中的含碳基團(tuán)對硅表面的污染。。

例如，在印刷電路中，等離子蝕刻技術(shù)可用于處理絕緣層的表面并提高其性能。等離子蝕刻機(jī)加工生物聚合物材料，選擇性地引入新基團(tuán)，潤濕表面，增加表面電位，提高聚合物的生物相容性，它們的表面能，極性組分，本體基團(tuán)。增加表面的比例和表面的微觀結(jié)構(gòu)。等離子蝕刻處理可讓您獲得具有不同化學(xué)成分的表面，以提高生物相容性。在等離子蝕刻技術(shù)的幫助下，通過增強(qiáng)涂層附著力來增強(qiáng)醫(yī)療設(shè)備組件的穩(wěn)健性。

21世紀(jì)初，主流的等離子刻蝕機(jī)都是洋槍洋槍，1995年美國政府開始對半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)行出口管制。這意味著禁止在中國大陸銷售先進(jìn)的蝕刻機(jī)。 ..國內(nèi)等離子清洗機(jī)蝕刻設(shè)備制造行業(yè)始于2003年。北方微電子公司（成立于2003年）致力于硅蝕刻機(jī)的開發(fā)，南油中微半導(dǎo)體公司（成立于2004年）開始蝕刻介電材料。兩家公司都有大量的海歸專家。

外延片plasma表面清洗機(jī)

等離子蝕刻機(jī)相對于濕法清洗的優(yōu)點(diǎn)是：用等離子蝕刻機(jī)清洗后，外延片plasma表面清洗機(jī)清洗后的物體非常干燥，無需再次干燥即可送至下一級。是一種綠色清潔方法，不含三氯乙烷等有害污染物，有益于環(huán)境保護(hù)。與激光等直射光不同，使用高頻電磁波的等離子體不具有很強(qiáng)的方向性，因此可以深入物體內(nèi)部。由于是在清潔內(nèi)部，因此無需過多考慮被清潔物體形狀的影響。與氟利昂的效果（效果）相當(dāng)?shù)那鍧嵭Чㄋ﹥?yōu)于這些難洗部位的清潔效果。

每個(gè)區(qū)域的清潔程序都有特定的清潔。隨著工藝、技術(shù)的發(fā)展和自動化清洗設(shè)備的出現(xiàn)，外延片plasma表面清洗機(jī)清洗也在朝著更高（效率）更快的方向發(fā)展。工業(yè)清洗根據(jù)細(xì)度要求可分為一般工業(yè)清洗、精密工業(yè)清洗、超精密工業(yè)清洗。根據(jù)清洗方式不同，可分為物理清洗和化學(xué)清洗。根據(jù)清洗介質(zhì)的不同，可分為濕洗和干洗。無論工業(yè)清洗如何分類，自動化、環(huán)保、高效的清洗方式是工業(yè)清洗行業(yè)需要的發(fā)展方向。等離子清洗機(jī)是一種物理清洗機(jī)。