一些非高分子無機(jī)氣體（Ar2、N2、H2、O2等）在高、低頻激發(fā)，山東低溫表面等離子處理機(jī)價格產(chǎn)生離子、激發(fā)分子、自由基等各種活性粒子。一般來說，在等離子清洗中，活性氣體可以分為兩類。一種是惰性氣體（Ar2、N2 等）的等離子體，另一種是反應(yīng)氣體（O2、H2 等）的等離子體。。等離子清洗機(jī)的激勵頻率通常有 40KHz、13.56MHz 和 2.45GHz 三種，具體取決于激勵頻率。這些被稱為中頻等離子清洗機(jī)、射頻等離子清洗機(jī)和微波。
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等離子體處理技術(shù)可有選擇地清洗、活化，山東低溫表面等離子處理機(jī)價格或涂覆各種材料，包括塑料、金屬、玻璃、薄膜或織物等。根據(jù)這一部分的處理，塑料具有阻隔性，金屬具有耐腐蝕性，玻璃具有耐污染性。材料處理后，涂裝和印刷質(zhì)量高，質(zhì)量穩(wěn)定，耐久性長。常壓等離子體處理技術(shù)可以使用戶的加工過程成為經(jīng)濟(jì)、安全的先進(jìn)加工技術(shù)。。
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高純N2用于產(chǎn)生等離子體，山東低溫表面等離子處理機(jī)價格同時預(yù)熱印張以在特定的第二階段激活聚合物材料，其中O2和CF4作為原始?xì)怏w，混合后產(chǎn)生O，F(xiàn)等離子體并與丙烯酸反應(yīng)、PI、FR4、玻璃纖維等達(dá)到凈化效果。第三階段以O(shè)2為原氣，O和F為殘余反應(yīng)，保持孔壁清潔。除等離子體化學(xué)反應(yīng)外，清洗過程還涉及與材料表面的物理反應(yīng)。等離子體粒子可以破壞材料表面上或附著在材料表面上的原子，這有利于清潔和蝕刻反應(yīng)。
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在晶圓、玻璃等產(chǎn)品表面顆粒的清除過程中，通常會采用等離子體對材料表面的顆粒進(jìn)行轟擊，加以實(shí)現(xiàn)對顆粒的分散和松動處理，然后再進(jìn)行離心清洗等處理工藝，會有著顯著的效果。在半導(dǎo)體封裝應(yīng)用中尤為突出，在經(jīng)過打線工藝后為防止導(dǎo)線氧化，需采用氬等離子體或氬氫等離子對產(chǎn)品表面進(jìn)行等離子清洗，實(shí)現(xiàn)更好的產(chǎn)品處理效果。
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