官能團具有活性基團，金屬表面增加附著力的樹脂可以明顯（顯著）提高材料的表面活性。 2.材料表面的蝕刻效果-物理效果等離子體中的大量離子、激發(fā)分子、自由基和其他活性粒子作用于固體樣品的表面，而不僅僅是去除它。產(chǎn)生蝕刻的原始表面污染物和雜質，使樣品表面粗糙，形成許多細小凹坑，增加樣品的比表面積。提高固體表面的潤濕性。

隨著等離子體注入功率的增加，增加附著力的增塑劑C2H6轉化率迅速增加，這是由于當?shù)入x子體能量密度增加時，等離子體中電子能量和電子密度均隨之增大，高能電子與H2發(fā)生非彈性碰脫撞概率增加，因此產(chǎn)生活性物種概率增加，導致C2H6轉化率增加，其他生成產(chǎn)物所需的各種CHx及C2Hx自由基濃度增加，促進了C2H4、C2H2生成量的增加。

出料次數(shù)越多，增加附著力的增塑劑出料速度下降越慢。如果腔內有揮發(fā)性物質，也可造成吸塵緩慢。比如透水材料-海綿透水材料-銅線骨架。而且真空等離子體清洗機受整體結構的限制，一般不能進行改裝。在思想分析上，可以通過增加抽吸量來解決，但如果增加抽吸量后產(chǎn)品減少，真空度就會降低；電源的負荷會增加且不穩(wěn)定，容易燒壞電源和匹配器，造成不必要的損失。

這種氧化膜的去除通常通過浸泡在稀氫氟酸中來完成。等離子清洗機在半導體晶圓清洗工藝中的應用等離子清洗具有工藝簡單、操作方便、無廢棄物處理、無環(huán)境污染等問題。但是，增加附著力的增塑劑它不能去除碳或其他非揮發(fā)性金屬或金屬氧化物雜質。等離子清洗常用于光刻膠去除工藝。在等離子體反應體系中通入少量氧氣，在強電場的作用下，等離子體中產(chǎn)生氧氣，光刻膠迅速氧化成易揮發(fā)的氣體狀態(tài)。

金屬表面增加附著力的樹脂

另一方面，從能量轉移的觀點來看，當金屬中的自由電子與激發(fā)的熒光分子相互作用時，熒光分子迅速將能量轉移給自由電子。這些傳輸?shù)哪芰恳员茸杂煽臻g中的熒光分子更高的頻率發(fā)射，因此鉆石熒光有所增加。激發(fā)的熒光分子通過弛豫過程將能量傳遞給金屬以形成等離子體。由未減弱的熒光分子發(fā)射的熒光誘導這些等離子體產(chǎn)生與熒光分子的發(fā)射波長相匹配的輻射。這將增加熒光強度。

對于較短的導線，漂白效應將強到足以抵消漂移的離子，從而抑制瞬移。電遷移主要通過運動進行體積傳遞和擴散效應，動量傳遞與金屬中的電流密度成正比，擴散效應與金屬中的溫度成正比。

這種氣體原子并不能直接進入大分子表面的大分子鏈，但是由于這些非反應性氣體等離子中的高能粒子對表面的轟擊，進行能量傳遞，產(chǎn)生大量的自由基，這些自由基通過在表面上形成雙鍵和交聯(lián)的結構而在表面形成了大量的自由基，因此非反應性氣體等離子體通過表面形成了薄而細的交聯(lián)層，不僅改變了材料表面的自由能，而且減少了聚合物內部低分子物質(增塑劑、抗氧劑等)的滲出。

（2）選用非反應性氣體的工藝原理非反應性氣體工藝氣體如Ar，He，H2等，這些氣體原子是不直接進入到材料表面的大分子鏈中，但這些非氣體離子中的高能粒子能對材料表面的轟擊，進行能量傳遞，產(chǎn)生大量的自由基，借助于這些自由基在材料表面形成雙鍵和交聯(lián)的結構，所以非反應性氣體等離子體在材料表面形成薄薄的致密的交聯(lián)層，不僅改變了材料表面的自由能，而且還可以減少高分子內部低分子物質(增塑劑、抗氧劑等)的滲出。

增加附著力的增塑劑

即當處理的材料中含有易揮發(fā)的物質，金屬表面增加附著力的樹脂如水分、溶劑或增塑劑等，這些物質在真空環(huán)境中會逸出，導致真空度降低，稱為滲氣，即反映為設備抽真空速度較慢。。