為了優(yōu)化橡膠材料的性能，白炭黑表面改性往往需要對炭黑進(jìn)行適當(dāng)改性，增強其表面活性，使其與橡膠基體具有更好的相容性，在表面接枝官能團，開發(fā)橡膠化合物的新特性。傳統(tǒng)的炭黑改性技術(shù)往往使用有毒物質(zhì)、非環(huán)保材料和腐蝕性介質(zhì)，經(jīng)濟成本也很高。近年來，研究人員發(fā)現(xiàn)，利用低溫等離子體表面處理器（點擊查看詳情）對炭黑進(jìn)行改性，方便靈活，不需要任何有毒物質(zhì)。不同氣體通過等離子體表面處理器產(chǎn)生的等離子體對炭黑的改性效果不同。

這時電阻率突然變化，白炭黑表面改性導(dǎo)電塑料對導(dǎo)體產(chǎn)生原始絕緣體，即滲透效應(yīng)。炭黑填充的LDPE復(fù)合材料的滲濾濃度與炭黑的結(jié)構(gòu)有關(guān)。超導(dǎo)炭黑填充復(fù)合材料的滲流濃度小于乙炔炭黑填充復(fù)合材料的滲流濃度。在制造過程中達(dá)到臨界濃度仍然很困難，但使用低溫等離子處理器工藝更容易達(dá)到臨界濃度。。低溫等離子加工電路板LED鍵合封裝技術(shù)的應(yīng)用：印刷電路板、電路板、PCB等也稱為印刷電路板。

這與La2O3催化劑在純催化條件下C2烴類的高選擇性是一致的。而鑭系催化劑對C2烴產(chǎn)物分布影響不大，氣相法白炭黑表面改性綜述C2H2是主要的C2烴產(chǎn)物。。純甲烷在等離子體作用下的轉(zhuǎn)化反應(yīng):早在20世紀(jì)30年代，德國Huels公司就開始研究甲烷熱等離子體熱解生產(chǎn)乙炔的方法。甲烷在電場中被釋放并轉(zhuǎn)化為炭黑、乙炔(C2H2)和氫氣(H2)。實現(xiàn)這一工藝的關(guān)鍵是使乙炔在極短的時間內(nèi)形成并冷卻到乙炔的穩(wěn)定溫度。

等離子框架處理器可以增強金屬有機物，氣相法白炭黑表面改性綜述化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)可以在低溫下產(chǎn)生低能離子和高電離、高濃度、高活化、高純度的氫等離子體，從而去除這些雜質(zhì)增加。在低溫下為 C 或 OH-。濕法清洗和等離子處理后的 RHEED 圖像顯示濕法處理的 SiC 表面散布。這表明濕處理后的 SiC 表面不平整，有局部突起。等離子處理的 RHEED 圖像有條紋，并且顯示出非常平坦的表面。

氣相法白炭黑表面改性綜述

從體現(xiàn)機制來講，等離子體清洗通常情況下包含下述環(huán)節(jié):無機汽體被引起為等離子體；氣相化學(xué)物質(zhì)粘附在固態(tài)表層；粘附基團與固態(tài)表層分子體現(xiàn)產(chǎn)生產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子分析形成氣相；體現(xiàn)殘留物從表層分離。 等離子清洗機的真空度有關(guān)情況包含真內(nèi)腔泄漏率、后背真空、機械泵速度和的工藝汽體進(jìn)氣流量。

低溫等離子體射頻感應(yīng)耦合等離子體　　射頻感應(yīng)耦合(ICP)等離子體源的早期研究始于20世紀(jì)初Thomson和Townsend，以及Wood等開創(chuàng)性的工作，但當(dāng)時的工作氣壓還在幾百帕，且等離子體產(chǎn)生尺度范圍還很窄而得不到廣泛的應(yīng)用.直到最近的10年，低壓、高密度大直徑的ICP等離子體源才在生產(chǎn)中得到使用[9,10等離子表面處理機].　　是目前流行的兩種不同RF射頻感應(yīng)耦合等離子體裝置.一種是圓筒型，即射頻耦合天線螺旋纏繞在柱形放電管(通常是絕緣石英管)周圍，一種是平面型，即射頻耦合天線同心螺旋放置在放電管的頂部，射頻能量通過天線耦合到放電管中，產(chǎn)生高密度均勻的ICP等離子體[7].ICP等離子體產(chǎn)生原理是通過匹配網(wǎng)絡(luò)將13.56MHz射頻功率加到螺旋線圈天線上產(chǎn)生射頻磁通，射頻磁通在真空圓筒形容器內(nèi)部軸向感生射頻電場，真空容器中的電子被感生電場加速，被電場加速的電子與氣體分子劇烈頻繁碰撞，使氣體分子被激發(fā)、電離及離解而形成ICP等離子體.　　ICP等離子體除了具有ECR等離子體的無內(nèi)電極放電無污染，等離子體密度高(~1010cm-3)等特點外，成本低的優(yōu)勢使得其應(yīng)用范圍更廣泛.ICP等離子體增強氣相沉積(ICPECVD)是化學(xué)氣相沉積技術(shù)的一　　種，其基本原理是將射頻放電的物理過程和化學(xué)氣相沉積相結(jié)合，利用ICP等離子體裂解反應(yīng)前驅(qū)物.如制備高硬度、耐高溫耐腐蝕的Si3N4薄膜[11].ICP等離子體的另一個主要工業(yè)應(yīng)用就是等離子體干法刻蝕，特別是反應(yīng)離子刻蝕(RIE).ICP等離子體干法刻蝕能夠克服濕法刻蝕嚴(yán)重的鉆蝕效應(yīng)及各向同性的缺點，具有選擇性、各向異性等特點，廣泛應(yīng)用于高集成度的微電子學(xué)集成電路的設(shè)計當(dāng)中.如采用Cl2等離子體對p-GaN薄膜進(jìn)行干法刻蝕[12].另外，ICP等離子體還廣泛應(yīng)用于輔助磁控濺射、電子束蒸發(fā)工藝中，作為離子源來增強反應(yīng)條件以及降低反應(yīng)溫度.等離子清洗機。

等離子體在電磁場中穿過空間并與要處理的表面碰撞，去除表面油、表面氧化物、焚燒的表面有機物和其他化學(xué)物質(zhì)到達(dá)表面。等離子處理工藝可以實現(xiàn)處理、清洗、蝕刻效果和選擇性表面改性。真空等離子清洗機工作流程：真空等離子清洗機包括反應(yīng)室、電源和真空泵組。通過將樣品放入反應(yīng)室，真空泵在一定程度上啟動真空泵，打開電源產(chǎn)生等離子體，然后將氣體引入反應(yīng)室，反應(yīng)室中的等離子體變成反應(yīng)等離子體，這些。等離子體與樣品相互作用。

所以低溫等離子表面處理是非熱平衡等離子體，低溫等離子表面處理中存在著大量的、種類繁多的活性粒子，比通常的化學(xué)反映所產(chǎn)生的活性粒子種類更多、活性更強，更易于和所接觸的材料表面發(fā)生反映，因此它們被用來對材料表面進(jìn)行改性處理。

氣相法白炭黑表面改性綜述

但是，氣相法白炭黑表面改性綜述具有活性基團的材料受氧的作用或分子鏈段的運動影響，表面活性基團消失。在等離子體對材料進(jìn)行表面改性的過程中，等離子體中的活性粒子作用于表面分子，使表面的分子鏈斷裂，產(chǎn)生自由基、雙鍵等新的活性基團。表面交聯(lián)、接枝等反應(yīng)。反應(yīng)等離子體是指等離子體中的活性粒子可以與持久性材料的表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。這引入了大量的極性基團，使材料表面由非極性變?yōu)闃O性，增加了表面張力，提高了附著力。

薄膜首先通過等離子體沉積，白炭黑表面改性然后通過反應(yīng)等離子體蝕刻，最終形成標(biāo)準(zhǔn)數(shù)十納米的圖案電路中各種薄膜蝕刻的特征標(biāo)準(zhǔn)小于人類頭發(fā)直徑的百分之一?！渡漕l等離子體物理學(xué)》以物理學(xué)為主要內(nèi)容，綜述了射頻等離子體物理學(xué)的最新進(jìn)展，以及等離子體物理學(xué)的一些基礎(chǔ)知識，如有界等離子體輸運和電診斷等。這本書的風(fēng)格有助于激發(fā)電子書讀者學(xué)習(xí)一種愛好，幫助他們建立物理形象和數(shù)學(xué)分析方法。