其基本原理:在氧氣等離子體中的氧原子自由基、激發(fā)態(tài)的氧氣分子、電子以及紫外線的共同作用下，重慶大氣低溫等離子體表面處理機公司被斷鍵后的有機污染物的元素會與高活性的氧離子發(fā)生化學反應,形成CO、CO2、H2O等分子結構脫離表面,達到表面清洗、活化、蝕刻目的。等離子清洗機氧氣主要應用于高分子材料表面活化及有機污染物去除,但不適用于易氧化的金屬表面。

此外，等離子體中的氧原子這是由于空氣等離子體中的氧原子、氧分子或其他活性物質被氧化，在材料表面形成新的含氧官能團，降低了含碳成分的含量，降低了上述含鐵氧化物表明金屬表面發(fā)生了氧化反應，進一步證明金屬表面引入了含氧基團，含氧基團的引入增加了上述極性基團的數(shù)量. 增加?；谋砻嫣岣吡吮砻娴臉O性，提高了潤濕性。

等離子體對油脂塵垢的效果，等離子體中的氧原子類似于使油脂塵垢產(chǎn)生焚燒反響;但不同之處是其在低溫情況下產(chǎn)生的“焚燒”。其基本原理:在氧氣等離子體中的氧原子自由基、激發(fā)態(tài)的氧氣分子、電子以及紫外線的一起效果下，油脂分子zui終被氧化成水和二氧化碳分子，并從物體外表被鏟除。 真空等離子清洗機產(chǎn)品長處：　　1、超大處理空間，提升處理產(chǎn)能，采用PLC 觸摸屏操控系統(tǒng)，準確的操控設備運轉。

工業(yè)不僅可以精確控制表面拓撲，重慶大氣低溫等離子體表面處理機公司還可以選擇是否形成復合層。另外，低溫等離子發(fā)生器。如果金屬表面有狹縫或孔洞，則可以通過此工藝輕松實現(xiàn)氮化。傳統(tǒng)低溫等離子發(fā)生器的氮化工藝采用直流或脈沖異常輝光放電。該工藝對于低合金鋼和工具鋼的滲氮是可以接受的，但不適用于不銹鋼，尤其是具有奧氏體結構的鋼。由于高溫氮化時CrN析出，金屬表面堅硬耐磨，但有易腐蝕的缺點。

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常用的等離子體激發(fā)頻率有三種：激發(fā)頻率為40kHz的等離子體為超聲等離子體，13.56MHz的等離子體為射頻等離子體，2.45GHz的等離子體為微波等離子體。不同等離子體產(chǎn)生的自偏壓不一樣。超聲等離子體的自偏壓為1000V左右，射頻等離子體的自偏壓為250V左右，微波等離子體的自偏壓很低，只有幾十伏，而且三種等離子體的機制不同。

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第二階段以O2和CF4為原始氣體，混合后產(chǎn)生O、F等離子，丙烯酸、PI、FR4、玻璃等使高分子材料處于特定的活化狀態(tài)發(fā)生反應。纖維達到去污的目的。第三階段以O2作為原始氣體，產(chǎn)生的等離子體和反應殘渣對孔壁進行清潔。在等離子清洗過程中，除等離子化學反應外，等離子還與材料表面發(fā)生物理反應。等離子體粒子敲除材料表面上的原子或附著在材料表面上的原子。這有利于清潔和蝕刻反應。

4、等離子體分解VOC技術及相關概念等離子體是不同于固體、液體、氣體等物質的第四種存在狀態(tài)，含有離子、電子、受激原子或分子、自由基等物質。 .之所以稱為等離子體，是因為氣體在正負空間范圍內的電荷相等。它是一種由大量正、負電荷粒子和中性粒子組成的準中性氣體，表現(xiàn)出集體行為。其主要特征是粒子間存在長程庫侖相互作用，等離子體運動與電磁場運動之間存在緊密耦合，存在非常豐富的集體效應和集體運動模式。

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）、惰性氣體如氧氣（O2）和氫氣（H2）如氟化氮（NF3）和四氟化碳（CF4），等離子體中的氧原子清洗過程中的各種氣體有不同的反應機理。惰性氣體等離子體具有較強的化學反應性，后面將結合具體應用實例進行介紹。 2.4 等離子體與物體表面的相互作用 等離子體中的氣體分子、離子和電子，以及被能量激發(fā)的電中性原子或原子團（也稱為自由基），以及等離子體發(fā)出的光。 .其中，波長和能級在等離子體與材料表面的相互作用中起著重要作用。

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