為了探討等離子體作用下純乙烷轉(zhuǎn)化反應的可能機理，附著力與剪切力區(qū)別在相同等離子體條件下考察了純乙烯的轉(zhuǎn)化反應，其反應的主要產(chǎn)物是：C2H2和CH4及少量積碳。根據(jù)上述實驗事實，結(jié)合等離子體作用下甲烷轉(zhuǎn)化反應機理及等離子體特性，推測C2H6在等離子體條件下轉(zhuǎn)化反應的歷程如下。（1）等離子體場產(chǎn)生高能電子。自由電子在電場E作用下加速，生成高能電子e*： e + E → e*（3-26）（2）引發(fā)自由基反應。

主要是通過產(chǎn)品的表面等離子體產(chǎn)生一系列的物理和化學變化,活性粒子和高能射線的使用包含在表面的有機污染物分子的反應和碰撞形成小分子揮發(fā)性物質(zhì),從表面,達到清潔的效果。等離子射頻等離子清洗機的基本系統(tǒng)選擇主要包括頻率的選擇、腔體材料的選擇、機器真空泵的選擇以及氣路的選擇。等離子體頻率選擇:現(xiàn)在常用的頻率有40KHz、13.56MHz、20MHz。這三種積分頻率的形成機理不同于處理過程。

由于高溫等離子體對物體表面的強烈影響，附著力與剪切力區(qū)別在實際應用中很少使用。目前只使用低溫等離子體。(2)活性氣體和惰性氣體等離子體,根據(jù)使用的不同化學性質(zhì)的氣體產(chǎn)生等離子體,可以分為惰性氣體等離子體活性氣體等離子體,惰性氣體,如氬氣(Ar)、氮(N2),氟化氮(NF3)、四氟化碳(CF4),等，活性氣體，如氧氣(O2)和氫氣(H2)，在清洗過程中有不同的反應機理。

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涂層附著力與耐候性機理

活性粒子產(chǎn)生通過等離子體輻射的紫外光高能電子與中間氣態(tài)分子混合相互作用，這些由電子激發(fā)產(chǎn)生的活性物質(zhì)，即參加反應的活性種粒子，其產(chǎn)生過程如下：式中：hv——等離子體輻射的紫外光能。

(3)工藝氣體通常是高潔凈氣體，過濾器通常也是選裝組件。工藝氣體控制部分主要包括調(diào)壓閥、過濾器、報警器、報警器輸出報警器表、真空電磁閥及質(zhì)控器。工藝氣體一般是兩路，也可以根據(jù)實際需要配置多路工藝氣體。(4)按照這種氣路布置，進氣順序是：先由過濾器將氣體輸送到調(diào)壓閥，壓力表輸出表，然后依次通過真空電磁閥和質(zhì)量控制器。

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等離子體表面處理器工藝還具有以下五大優(yōu)勢：1.環(huán)保技術：等離子體表面處理工藝為氣固相干反應，不消耗水資源，不添加化學物質(zhì)。2.效率高：整個流程可在短時間內(nèi)完成。3.成本低：裝置簡單，操作維護方便，少量氣體代替昂貴的清洗液，無廢液處理費用。4.處理更精細：可進一步精細孔洞和凹陷，完成清潔任務。5.適用性廣：等離子體表面處理工藝可實現(xiàn)對大多數(shù)固體物質(zhì)的處理，因此應用廣泛。

涂層附著力與耐候性機理