2、容量：對于容量要求高的產(chǎn)品，劃格法附著力評定需要根據(jù)容量來選擇型腔尺寸。型腔尺寸越大，一次可以加工的產(chǎn)品越多。如果容量要求不高，則優(yōu)先考慮工作大小。如果可以放置工件，可以根據(jù)其容量計算出合適的型腔尺寸。我們要考慮的第二個問題是選擇等離子清洗機的頻率。頻率選擇：目前常用的頻率有40KHZ、13.56MHZ和20MHZ。 40KHZ的自偏壓約 0V，13.56MHZ的自偏壓約250V，20MHZ的自偏壓低。
可以通過減小介質(zhì)厚度、減小溝槽的刻蝕深度或增加通孔的臨界尺寸來減小深寬比，劃格法附著力評定從而有效地減少了早期失效的上游EM.It應(yīng)該指出,薄夾層介質(zhì)材料和金屬線厚度會增加RC延遲,并增加關(guān)鍵金屬化孔的大小會導(dǎo)致介質(zhì)TDDB的問題與通孔,所以有必要找到他們之間的平衡,電氣參數(shù)和TDDB。
其原理是利用高頻高壓在處理后的塑料表面電暈放電（高頻交流電壓高達(dá)5000-15000V/m2)，劃格法附著力評定產(chǎn)生低溫等離子體，使塑料表面產(chǎn)生自由基反應(yīng)，使聚合物交聯(lián)。表面變得粗糙，增加對極性溶劑的潤濕性--這些離子通過電擊、穿透等方式進(jìn)入印體表面破壞其分子結(jié)構(gòu)，進(jìn)而使處理后的表面分子氧化極化，離子電擊侵蝕表面，從而增加印體表面的粘附能力。等離子處理器用于在線加工，可用于各種生產(chǎn)線加工曲面。對象大小沒有限制。
a等離子表面處理通常包括以下過程:b等離子表面處理無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài)；c氣相物質(zhì)通過效用吸附在固態(tài)表面；d吸附物與固體表面分子發(fā)生反應(yīng)，劃格法附著力評定產(chǎn)生產(chǎn)物分子；e等離子表面處理后，產(chǎn)物分子再分析形成氣相，進(jìn)而達(dá)到反應(yīng)殘留物脫離表面的效果。 親愛的，謝謝你耐心的閱讀。如果這篇文章對你有幫助，請贊美或關(guān)注；如果您有更好的建議或內(nèi)容，請在下面的評論區(qū)留言與我們互動。。
劃格法附著力評定
功率一般在1～2kW，大的可以5kW，小的幾百W，是用得多的等離子體電源；還有一款40kHz的中頻電源，這款電源和射頻電源正好相反，等離子體密度沒有那么高，但是強度兇猛，能量高，高度也高，功率也很大。大功率可達(dá)幾十千瓦，即使從理論上看，去除膠渣和蝕刻常用幾百千瓦。如果真空等離子清洗機使用中頻電源，則需要用水冷卻，這也是常用的等離子電源。常壓旋轉(zhuǎn)射流機火焰射頻等離子清洗機的溫度與平時室內(nèi)天氣溫度相近。
容易采用數(shù)控技術(shù)，自動化程度高；具有高精度的控制裝置，時間控制的精度很高；正確的等離子體清洗不會在表面產(chǎn)生損傷層，表面質(zhì)量得到保證；由于是在真空中進(jìn)行，不污染環(huán)境，保證清洗表面不被二次污染。真空離子清洗機是氣體分子在真空、放電等特殊場合下產(chǎn)生的物質(zhì)，等離子清洗/刻蝕產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置。
與La2O3/Y-Al2O3催化劑不同，Nd2O3/Y-Al2O3催化劑傾向于吸附含氧自由基。易被表面含氧自由基氧化生成CO。值得注意的是CeO2/Y-Al2O3和等離子等離子體在CO2氧化CH4為C2烴的反應(yīng)中表現(xiàn)出更好的催化活性。這類似于甲烷催化氧化中的 CeO2 / Y-Al2O3。偶聯(lián)反應(yīng)明顯不同。
等離子清洗機主要應(yīng)用于電子行業(yè)的手機殼印刷、鍍膜、點膠等預(yù)處理，手機屏幕外觀加工;軍工航空航天電連接器表面清洗;等離子清洗機的清洗原理是在真空室中，通過射頻電源在一定壓力條件下輸送高能無序等離子體，通過等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品的外觀，以達(dá)到清洗目的。
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